华海清科：公司化学机械抛光（CMP）配备出机累

　　华海清科12月19日通知布告，近日，公司化学机械抛光(CMP)配备出机累计超800台，涵盖公司universal-H300、universal-S300等多款从力机型和最新款机型，不只全面笼盖逻辑、3D NAND存储、更成功切入大硅片、第三代半导体、MEMS。